作为我国乃至全球光伏与储能行业一年一度的国际盛会，11月17-20日，2025年第八届中国国际光伏与储能产业大会将隆重举行。国家、省、市各级重要领导、全球领袖企业家、顶尖专家学者等将汇聚一堂，聚焦“双碳”背景下，光伏与储能品牌的新技术、新成果、新发展。作为深耕泛半导体核心工艺装备的国家高新技术企业，江西汉可泛半导体技术有限公司（以下简称“江西汉可”）将携新成果精彩亮相本届大会，为推动光储行业融合高效发展提供源源不断的动力。
江西汉可泛半导体技术有限公司，是一家专注于泛半导体领域用大型智能真空镀膜设备-HoFCVD（热丝CVD，适合超大面积镀膜，大规模量产）研发、生产和销售的高新技术企业，是江西省“首台套”、“专精特新”、“潜在独角兽”企业，获批江西省企业技术中心、江西省工程研究中心等3个省级研究平台；荣获工信部/财政部“创客中国”大赛全国20强；承担中央引导地方专项、“揭榜挂帅”、江西省重点研发计划等10多项，申报知识产权100多项。
江西汉可首创的“非晶硅+氮（氧）化硅”复合膜层钝化技术，采用非晶硅钝化，氮（氧）化硅保护，适用于TOPCon、xBC、HJT等主流光伏电池的半片钝化，以及多分片组件，提升电池效率和组件输出功率，以及电池的可靠性。经钝化处理后，电池效率提升≥0.2%，pFF提升≥0.5%。
汉可HoFCVD边缘钝化设备具备六大优势：
（1）复合膜层，非晶硅保证边缘钝化效果，氮化硅提升组件可靠性和耐久；
（2）无绕镀，热丝CVD镀膜原理和结构决定了HoFCVD可以做到完全无绕镀；
（3）不粘片，工艺时间短，无需TMA，电池片下料无粘片，碎片率低于0.05%；
（4）大产能，双载板镀膜，单线离线式支持1～5GW产能；
（5）沉积速度快，节拍300秒；
（6）低温制备，可室温～200℃低温镀膜，在不破真空情况下多腔体连续沉积。
HoFCVD作为一种新型真空镀膜设备，具有高质量、高产能、高稼动率、低成本等优势，可实现氮(氧)化硅、非(微)晶硅等材料低温低成本制备（常温-200℃），广泛应用于光伏与储能领域。
今年11月17-20日，江西汉可将携国内首台套量产型HoFCVD边缘钝化设备，亮相2025第八届中国国际光伏与储能产业大会，为行业带来新型“非晶硅+氮（氧）化硅”复合膜层钝化技术方案。目前，大会官方报名渠道已全面开启，诚挚邀请海内外观众、企业代表及各界人士踊跃报名参与，共襄盛会，为全球能源转型、人类美好未来汇智聚力。